6月29日，有关信息从科大硅谷公众号传出。安徽凌光红外科技有限公司最近推出了LUXET VERITAS微光显微镜和激光诱导电阻变化（EMMI+OBIRCH）二合一显微镜，使得国内市场就此领域首次有了产品供应。
IT之家了解到，LUXET VERITAS二合一显微镜整合了EMMI微光检测与OBIRCH激光诱导电阻变化这两种主要的失效分析技术。这种设备一机可以两用，而且高度集成，能够满足半导体整个产业链的检测需求。
介绍中提到，目前全球半导体产业正进入先进制程时代。芯片内部的构造变得越来越精巧复杂，电性失效分析变成了芯片研发、提升良率以及保证品质的关键步骤。
关于核心硬件及性能参数，设备上安装了深度制冷近红外相机和自研的1.35倍大口径物镜。EMMI模块能够精确找到纳安级别的微弱漏电，有效地识别PN结击穿、闩锁效应、栅极氧化层漏电和多晶硅缺陷等常见的失效情况。OBIRCH模块使用的是1300nm标准激光波段，500mW的额定功率，实现了pA级别的超高精度电流放大测量，精确地找出金属线路、导通孔、接触孔阻值等方面的隐藏问题。
